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ITO靶
ITO靶的主要生产工艺是：将三氧化二铟和三氧化二锡按一定比例混合均匀---冷等静压成坯---热等静压制成靶---线切割---客户需要尺寸
1、产品：氧化铟锡靶材相对密度为：RD99；纯度≥99.99%
2、化学成分
In2O3 : SnO2 = 90: 10（m/m），偏差为±0.5%（m/m）。
In2O3 : SnO2 = 97: 3（m/m），偏差为±0.5%（m/m）。
3 物理性能
3．1 相对密度：相对密度≥99％；密度均匀性偏差≤±0.2％；
3.2 电阻率：≤2.0Ω·mm2/m；
3.3 平均线膨胀系数：（2～9）×10-6 ℃-1 ；
3.4 失氧率：≤5％
4 物理规格
氧化铟锡靶材呈片状或其它形状，最大尺寸为∮250*300，其规格尺寸及其偏差由供需双方商定。